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乾燥炉(真空 加熱) - 企業2社の製品一覧

製品一覧

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真空加熱乾燥炉

スパッタターゲットの真空乾燥や真空部品の真空乾燥、治具等の真空乾燥に利用可能!

『真空加熱乾燥炉』は、自動乾燥プロセスレシピが30通りあります。 使用温度範囲は最高450℃。スパッタターゲットの真空乾燥をはじめ、 真空部品の真空乾燥や、治具等の真空乾燥にご利用いただけます。 各種オーダーメイドも製作可能ですので、ご用命の際はお気軽に お問い合わせください。 【特長】 ■使用温度範囲:最高450℃ ■到達圧力:10Pa ■自動乾燥プロセスレシピ:30通り ■試料棚:2段 ■各種オーダーメイドも製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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近赤外線塗装乾燥炉「ハロゲンランプオーダーシステム」

近赤外線ハロゲンランプを使用し高効率な乾燥機を設計!内側から乾燥や効果を促進することで未乾燥・未硬化を低減!省エネ・長寿命です!

近赤外線ハロゲンランプは、 対象物を内側から乾燥や硬化を促進させるので未乾燥・未硬化などの不具合発生を低減します。 また電源ONで瞬時に要求温度に達しますので無駄なく短時間で処理を終えることが可能となります。 よって省エネルギーによるコスト削減や環境エコにも繋がります。 目的、用途、被乾燥物に合わせた乾燥・加熱性能を提供し、様々な材質、目的に合わせ設計いたします。 ■特徴 ・レスポンスの速さ ・ランプ式放射加熱で雰囲気温度に影響されない質の高い赤外線を放射 ・均一な照射で焼きムラ・乾燥ムラを低減 ・コンタミフリーなクリーン加熱で、大気中・真空中など加熱雰囲気不問 ・約3000~5000時間(使用環境や出力により変わります)の長寿命設計 ※詳細はPDFダウンロードいただくかお問合せ下さい。

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  • その他半導体製造装置

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